（TEL：2480）
担当：多米 晃裕
利用取り決めをお読み下さい。
- 透過型電子顕微鏡 （Transmission Electron Microscope）
- 走査型電子顕微鏡 （Scanning Electron Microscope）
- ウルトラミクロトーム （Ultramicrotome）
- クライオウルトラミクロトーム （Cryo Ultramicrotome）
- 凍結割断レプリカ作製装置 （Freeze-Fracture System）
- 急速凍結装置 （Quick Freezing System）
- 凍結置換装置（freeze substitution processor）
- マイクロウェーブ迅速処理装置（Microwave Processer）
- 真空蒸着装置 （Vacuum Deposition Device）
- 臨界点乾燥装置 （Critical Point Dryer）
- 凍結乾燥装置 （Freeze Drying Device）
- イオンコーター （Ion Coater）
- 親水化処理装置
- ガラスナイフ作製機 （Glassknife Maker）
透過型電子顕微鏡 （Transmission Electron Microscope）
日立 H-7650 No1（2006年2月導入）
-
- 型式：日立 H -7650
- 加速電圧：40～120kv
- 倍率：ZOOM 200～600,000倍
- デジタルカメラ（ボトムカメラ）：1024×1024画素、12bit
- 使用料：400円／時間
日立 H-7650 No2（2008年3月導入）
- 型式：日立 H -7650
- 加速電圧：40～120kv
- 倍率：ZOOM 200～600,000倍
- デジタルカメラ（サイドカメラ）：1024×1024画素、12bit
- デジタルカメラ（ボトムカメラ）：4008×2664画素、14bit
- 付属機能：X線分析装置
- 使用料：400円／時間
走査型電子顕微鏡 （Scanning Electron Microscope）（2008年9月導入）
- 型式：日本電子 JSM-6390
- 加速電圧：0.5～30kV
- 倍率：5～300,000倍
- 付属機能：低真空機能、X線分析装置
ウルトラミクロトーム （Ultramicrotome）（1987年3月導入）
- 型式：ライヘルト ULTRACUT Ｎ
クライオウルトラミクロトーム （Cryo Ultramicrotome）（1995年2月導入）
- 型式：ライヘルト ULTRACUT S／ FC S
- 切削温度範囲：－185℃～＋100℃
ウルトラミクロトーム （Ultramicrotome）（2008年3月導入）
- 型式：Leica EM UC6
凍結割断レプリカ作製装置（Freeze-Fracture System）（2015年1月導入）
- 型式：BAL-TEC BAF060
急速凍結装置（Quick Freezing System)（2006年2月導入）
- 型式：ライカ EM CPC
凍結置換装置（freeze substitution processor ）（2006年2月導入）
- 型式：ライカ EM AFS2
マイクロウェーブ迅速処理装置（Microwave Processer）（1997年3月導入）
- 型式：AZUMAYA MI-77
- 出力：150～400W
- 間接照射可能
真空蒸着装置 （Vacuum Deposition Device）（2006年2月導入）
- 型式：真空デバイス VE-2030
臨界点乾燥装置 （Critical Point Dryer）（1982年3月導入）
- 型式：日立 HCP-2
凍結乾燥装置 （Freeze Drying Device）（1990年11月導入）
- 型式：日本電子 JFD-300
イオンコーター （Ion Coater）（2013年2月導入）
- 型式：真空デバイス ＭＳＰ－1Ｓ
- ターゲット：Au-Pd
親水化処理装置（2013年2月導入）
- 型式：真空デバイス ＰＩＢ－10
ガラスナイフ作製機 （Glassknife Maker）（1995年2月導入)
メッサーＣ
- 型式：三慶科学研究所 メッサーＣ
- 使用ガラス：10×10cm、厚さ5～12mm
EM-25A型
- 型式：日新EM EM-25A型
- 使用ガラス：幅 25mm、厚さ 6, 8, 10mm
